Dan mantenimiento menor a los 52 planteles Cecytech
Se preparan para continuar brindando instalaciones dignas, seguras y acordes a las necesidades académicas del alumnado y el personal docente y administrativo una vez que se puedan reanudar las clases presenciales que actualmente toman de manera virtual ante la pandemia
El Colegio de Estudios Científicos y Tecnológicos del Estado de Chihuahua (Cecytech) por tercer año consecutivo emitió la convocatoria del Programa de Mantenimiento Menor que se llevará a cabo en los 52 planteles del subsistema.
Actualmente tiene presencia en 36 municipios del estado, en donde brinda atención a cerca de 17 mil alumnas y alumnos de educación media superior con especialidad tecnológica y bachillerato general.
La Junta Directiva de Cecytech, autorizó recursos para que los planteles sigan contando con espacios educativos en excelentes condiciones, en beneficio de estudiantes, así como del personal docente y administrativo.
Algunas de estas acciones privilegian servicios sanitarios, iluminación, redes hidráulicas, impermeabilización, sustitución de vidrios y puertas, mejoramiento de corredores y banquetas, pintura, resanado y cercas perimetrales, entre otras.
Se busca concluir para fin de año estos trabajos de mantenimiento menor, que se realizan por parte del personal del área de mantenimiento, y con la colaboración de las presidencias municipales, madres y padres de familia, quienes apoyan en sus horas libres en la reparación y acondicionamiento de estos centros escolares.
La directora general del Cecytech, Ana Belinda Ames Russek, señaló que además se efectuará la comprobación de los recursos asignados para cada uno de los centros de estudio.
Reiteró que la institución continuará implementando las medidas necesarias para recibir a las y los alumnos, en un espacio seguro, instalaciones adecuadas y acordes a sus necesidades académicas, una vez que el semáforo de riesgo epidemiológico permita el regreso a clases presenciales, ya que actualmente se toman de manera virtual ante la pandemia.